您的位置：網(wǎng)站首頁 > 新聞資訊 高功率等離子清洗機的清洗原理是根據(jù)電離氣體將來自清洗源被固定在表面的化合物轉(zhuǎn)變?yōu)闊o害的氣體。基于高頻電離氣體產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，用于清洗表面污染物以及去除表面化學(xué)物質(zhì)。這種清洗方法很適用于那些高負荷、密集成分的部件和微型裝置元件。可以采取干...
激光二極管是當(dāng)前常用的激光器之一，在二極管的PN結(jié)兩側(cè)電子與空穴的自發(fā)復(fù)合而發(fā)光的現(xiàn)象稱為自發(fā)輻射。當(dāng)自發(fā)輻射所產(chǎn)生的光子通過半導(dǎo)體時，一旦經(jīng)過已發(fā)射的電子—空穴對附近，就能激勵二者復(fù)合，產(chǎn)生新光子，這種光子誘使已激發(fā)的載流子復(fù)合而發(fā)出新光...
光學(xué)接觸角測量儀并不復(fù)雜，通俗的說，就是液滴在固體表面自然形成的半圓形態(tài)相對于固體平面的外切線。接觸角的應(yīng)用非常廣泛，甚至可以說涉及到身邊的每個細節(jié)，比如我們希望汽車玻璃上不沾雨水、但反之我們希望汽車鋼板上的油漆不脫落。其他比如農(nóng)藥和蔬菜葉...
勻膠顯影系統(tǒng)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、物理學(xué)、工程與技術(shù)科學(xué)基礎(chǔ)學(xué)科、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器，涂膠顯影設(shè)備是芯片制程中不可少的處理設(shè)備，利用機械手實現(xiàn)晶圓在各系統(tǒng)間的傳輸和加工，與光刻機達成配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等...
薄膜反射儀主要用于建筑節(jié)能領(lǐng)域外墻熱反射涂料、節(jié)能玻璃、油漆、金屬等材料的現(xiàn)場太陽反射比測量，同時也適用于涂料、油漆等材料的配方研發(fā)及生產(chǎn)測試，可以同時面向工程現(xiàn)場檢測和實驗室檢測。具有性價比高，測量快速、準確，操作簡單，攜帶方便等特點，配...
濕法刻蝕系統(tǒng)工藝主要包括三部分：硫酸、硝酸、氫氟酸氫氧化鉀氫氟酸本工藝過程中，硝酸將硅片背面和邊緣氧化，形成二氧化硅，氫氟酸與二氧化硅反應(yīng)生成絡(luò)合物六氟硅酸，從而達到刻蝕的目的。刻蝕之后經(jīng)過KOH溶液去除硅片表面的多孔硅，并將從刻蝕槽中攜帶...
濕法制粒(wetgranulation)是在藥物粉末中加入液體粘合劑，靠粘合劑的架橋或粘結(jié)作用使粉末聚結(jié)在一起而制備顆粒的方法。由于濕法制粒的產(chǎn)物具有外形美觀、流動性好、耐磨性較強、壓縮成形性好等優(yōu)點，在醫(yī)藥工業(yè)中的應(yīng)用廣泛。而對于熱敏性、...
AT-400原子層沉積是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原了層沉積過程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。原子層淀積（AL...
熱重分析質(zhì)譜儀就是將熱重分析儀（TGA）與質(zhì)譜儀聯(lián)用，可以檢測到非常低含量的雜質(zhì)，這一手段越來越受歡迎。然而，在實時監(jiān)測時，TG-MS聯(lián)用會因多重反應(yīng)同時發(fā)生或者高質(zhì)量離子掩蓋低質(zhì)量的而使結(jié)果變得混亂復(fù)雜。在此體系中加入氣相（GC），多重反...
基本型等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子...
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