光學接觸角測量儀被廣泛用于表界面研究的科研、開發和質量控制。可以幫助您輕松準確地表征您所需了解的表面情況，從而節省您寶貴的時間和經費。從研究到快速的質量控制，光學接觸角測量儀系列產品使這些應用簡單可行。系列產品的多功能性，能滿足您需要的所有...
等離子清洗機適用于LCD產品的端子清潔，大幅度的提高產品表面的浸潤性能，形成活性的表面；除去灰塵和油污，精細清洗和去靜電；通過表面涂層處理提供功能性的表面，提高表面的附著能力，提高表面粘接的可靠性和持久性。等離子清洗機產品特點:1.環保技術...
激光二極管測試儀器提供一個高達500毫安低噪聲電流源和一個36W高精密溫度控制器，與標準計算機接口。主要用來測試和控制激光二極管，并對其有保護、確定穩定工作等特性。其中激光器電流源能提供非常穩定的電流輸出,同時還采取了很多措施保護激光器如：...
等離子清洗機是一種干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。等離子清洗機是用工作氣體在電磁場的作用下激發出等離子體與物體表面產生物理和化學反應，從而達到清洗的目的。因為等離子清洗機的成本較低而且操作簡單靈活，可以方便的變更處理氣體的種類和處...
勻膠旋涂儀產品概述：旋涂是一種廣泛使用的多功能技術，用于將材料沉積到基材上，從而獲得可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂儀價格實惠，操作簡單，結構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案。該款勻膠旋涂儀采用創新設計的托盤，無需真空泵或充氮...
微波等離子去膠機是半導體工業及從事微納加工工藝研究的必要設備，主要用于半導體加工工藝及其它薄膜加工工藝過程中，各類光刻膠的干法去除、基片清洗和電子元件的開封等。微波等離子去膠機主要應用：等離子體表面改性、有機物表面等離子體清潔、等離子體刻蝕...
等離子清洗機原理是在真空狀態下使電極之間形成高頻交變電場，區域內氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對被清洗物進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子，和氣態物質，經過抽真空排出，而...
微波等離子去膠機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為計算機全自動控制的系統。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中...
光學接觸角測量儀整機由精密光學機械結構、光學成像系統、精密滴定系統以及專業級的界面化學分析軟件CAST2.0組成，可用于測試動態和靜態接觸角值、固體表面自由能及其分布（色散力、極性力、氫鍵力）、液-氣和液-液界面張力值（pendantdro...
等離子清洗機的應用，起源于20世紀初，隨著高科技產業的快速發展，其應用越來越廣，目前已在眾多高科技領域中，居于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產業經濟和人類文明影響zui大，*電子資訊產業，尤其是半導體業與光電產業。等離子清洗機優勢：一、清...
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